高取向钨青铜结构铁电、电光薄膜材料研究

基本信息
批准号:50372085
项目类别:面上项目
资助金额:24.00
负责人:张曰理
学科分类:
依托单位:中山大学
批准年份:2003
结题年份:2006
起止时间:2004-01-01 - 2006-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:莫党,蒋志洁,车宇,郭扬铭,陶科玉,李芳,王正
关键词:
钨青铜结构铁电电光薄膜SCNNKNSBNBSTN
结项摘要

采用磁控溅射、激光脉冲沉积技术研究钨青铜结构铁电、电光薄膜材料在不同衬底上的生长制备条件,生长制备出具有高取向、高质量的钨青铜结构铁电、电光薄膜材料,如:KNSBN, BSTN, SCNN等。通过能谱分析\X射线衍射、扫描电镜、原子力显微镜研究,确定薄膜的组分、晶态结构、取向和表面形貌;通过椭偏光谱、透射光谱的测量和分析研究,得到薄膜的折射率和消光系数等光学参数谱及变化规律;用反射光栅测量技术测量

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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