采用磁控溅射、激光脉冲沉积技术研究钨青铜结构铁电、电光薄膜材料在不同衬底上的生长制备条件,生长制备出具有高取向、高质量的钨青铜结构铁电、电光薄膜材料,如:KNSBN, BSTN, SCNN等。通过能谱分析\X射线衍射、扫描电镜、原子力显微镜研究,确定薄膜的组分、晶态结构、取向和表面形貌;通过椭偏光谱、透射光谱的测量和分析研究,得到薄膜的折射率和消光系数等光学参数谱及变化规律;用反射光栅测量技术测量
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数据更新时间:2023-05-31
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