高取向钨青铜结构铁电、电光薄膜材料研究
基本信息
批准号：50372085
项目类别：面上项目
资助金额：24.00
负责人：张曰理
学科分类：
依托单位：中山大学
批准年份：2003
结题年份：2006
起止时间：2004-01-01 - 2006-12-31
项目状态： 已结题
项目参与者：莫党,蒋志洁,车宇,郭扬铭,陶科玉,李芳,王正
关键词：
钨青铜结构铁电电光薄膜SCNNKNSBNBSTN
结项摘要
采用磁控溅射、激光脉冲沉积技术研究钨青铜结构铁电、电光薄膜材料在不同衬底上的生长制备条件，生长制备出具有高取向、高质量的钨青铜结构铁电、电光薄膜材料，如：KNSBN, BSTN, SCNN等。通过能谱分析\X射线衍射、扫描电镜、原子力显微镜研究，确定薄膜的组分、晶态结构、取向和表面形貌；通过椭偏光谱、透射光谱的测量和分析研究，得到薄膜的折射率和消光系数等光学参数谱及变化规律；用反射光栅测量技术测量
项目摘要
项目成果
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数据更新时间：2023-05-31
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