新型减感染料合成及在正性卤化银成像体系的微观过程

通过对新型减感染料合成及其应用的研究，通过对卤化银成像体系中四种荷电粒子：光生电子、正空穴、填隙银离子和银离子空位行为以及灰雾中心本质的研究，成功地全成了九种有用的减感染料，提示了它们的减感性能与结构之间的关系，并通过各种实验测定和理论计算提出和证实了它们的减感机理，阐明了直接正像形成的微观过程以及各种因素如卤素组分、晶体结构、掺杂元素、增感条件、染料吸咐和电子捕获剂的应等对上述四种荷电粒子行为的影响。对于深入了解卤化银成像体系中直接正像形成的机理具有很大意义。研制成功的减感染料可应用于各种感光材料的制备。研制成功的直正性乳剂可应用于医学、科研、教学和军事等多种领域。